Produktuaren Deskribapena
Gure enpresak SiC estaldura-prozesuko zerbitzuak eskaintzen ditu CVD metodoaren bidez grafito, zeramika eta beste materialen gainazalean, karbonoa eta silizioa duten gas bereziek tenperatura altuan erreakziona dezaten, purutasun handiko SiC molekulak lortzeko, estalitako materialen gainazalean metatutako molekulak. SIC babes-geruza osatuz.
Ezaugarri nagusiak:
1. Tenperatura handiko oxidazio erresistentzia:
Oxidazio-erresistentzia oso ona da oraindik tenperatura 1600 C-rainokoa denean.
2. Garbitasun handia: tenperatura altuko klorazio-baldintzetan lurrun-jadapen kimikoen bidez egina.
3. Higadura erresistentzia: gogortasun handia, gainazal trinkoa, partikula finak.
4. Korrosioarekiko erresistentzia: azido, alkali, gatza eta erreaktibo organikoak.
CVD-SIC estalduraren zehaztapen nagusiak
| SiC-CVD propietateak | ||
| Kristal Egitura | FCC β fasea | |
| Dentsitatea | g/cm³ | 3.21 |
| Gogortasuna | Vickers gogortasuna | 2500 |
| alearen tamaina | μm | 2~10 |
| Garbitasun kimikoa | % | 99,99995 |
| Bero Ahalmena | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Sublimazio-tenperatura | ℃ | 2700 |
| Indar felesural | MPa (RT 4 puntu) | 415 |
| Gazteen Modulua | Gpa (4 puntuko bihurgunea, 1300 ℃) | 430 |
| Hedapen termikoa (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Eroankortasun termikoa | (W/mK) | 300 |
-
Erreakzio sinterizatua Silizio karburozko ontzia
-
41 pieza 4 hazbeteko grafito oinarri MOCVD ekipamendua ...
-
Silizio karburozko ontzia karratua
-
MOCVD substraturako elementu berotzaileak
-
2 hazbeteko grafitozko oinarri MOCVD ekipamenduko 19 pieza...
-
Erdieroalearen bigarren erdiko piezak epitaxialetarako