CVD TaC estalduraren sarrera:
CVD TaC estaldura substratu baten gainazalean tantalio karburoa (TaC) estaldura uzteko lurrun-deposizio kimikoa erabiltzen duen teknologia da. Tantalo karburoa errendimendu handiko zeramikazko materiala da, propietate mekaniko eta kimiko bikainak dituena. CVD prozesuak TaC film uniforme bat sortzen du substratuaren gainazalean, gas-erreakzio bidez.
Ezaugarri nagusiak:
Gogortasun eta higadura erresistentzia bikaina: Tantalo karburoak oso gogortasun handia du, eta CVD TaC Estaldurak substratuaren higadura erresistentzia nabarmen hobe dezake. Horri esker, estaldura ezin hobea da higadura handiko inguruneetan, hala nola ebaketa-tresnak eta moldeak, aplikazioetarako.
Tenperatura Handiko Egonkortasuna: TaC estaldurek labe eta erreaktoreen osagai kritikoak babesten dituzte 2200 °C-ko tenperaturan, egonkortasun ona erakutsiz. Egonkortasun kimiko eta mekanikoa mantentzen du muturreko tenperatura baldintzetan, tenperatura altuko prozesatzeko eta tenperatura altuko inguruneetan aplikazioetarako egokia da.
Egonkortasun kimiko bikaina: Tantalo karburoak korrosioarekiko erresistentzia handia du azido eta alkali gehienekiko, eta CVD TaC estaldurak ingurune korrosiboetan substratuari kalteak eragin ditzake.
Urtze-puntu altua: Tantalo karburoak urtze-puntu altua du (3880°C gutxi gorabehera), eta CVD TaC Estaldura muturreko tenperatura altuko baldintzetan erabil daiteke urtu edo degradatu gabe.
Eroankortasun termiko bikaina: TaC estaldurak eroankortasun termiko handia du, eta horrek tenperatura altuko prozesuetan beroa modu eraginkorrean xahutzen laguntzen du eta tokiko gainberotzea ekiditen du.
Aplikazio potentzialak:
• Galio nitruroa (GaN) eta silizio karburoa CVD erreaktore epitaxialeko osagaiak barne, obleak, parabolikoak, dutxa-buruak, sabaiak eta suszeptoreak barne.
• Silizio karburoa, galio nitruroa eta aluminio nitruroa (AlN) kristal hazteko osagaiak, besteak beste, arragoa, hazi-euskarriak, gida-eraztunak eta iragazkiak.
• Osagai industrialak, erresistentzia-elementuak, injekzio-toberak, maskaratze-eraztunak eta brasa-jak barne
Aplikazioaren ezaugarriak:
• 2000°C-tik gorako tenperatura egonkorra, muturreko tenperaturetan funtzionatzeko aukera ematen duena
• Hidrogeno (Hz), amoniako (NH3), monosilano (SiH4) eta silizio (Si) erresistentea da, ingurune kimiko gogorretan babesa eskaintzen duena.
• Bere kolpe termikoaren erresistentziari esker, funtzionamendu-ziklo azkarragoak ahalbidetzen ditu
• Grafitoak atxikimendu handia du, bizitza luzea eta estaldura delaminaziorik ez duela bermatuz.
• Garbitasun oso altua, beharrezkoak ez diren ezpurutasunak edo kutsatzaileak kentzeko
• Estaldura konformatua dimentsio-perdoia estuetara
Zehaztapen teknikoak:
CVD bidez tantalio karburozko estaldura trinkoak prestatzea:
TAC estaldura kristalino handiko eta uniformetasun bikainarekin:
CVD TAC COATING Parametro teknikoak_Semicera:
Aurrekoak balio tipikoak dira.
