SiN Zeramika Substratu arruntak

Deskribapen laburra:

Semicera-ren SiN Ceramics Plain Substrateek errendimendu termiko eta mekaniko aparta eskaintzen dute eskaera handiko aplikazioetarako. Iraunkortasun eta fidagarritasun handiagoa lortzeko diseinatuta, substratu hauek ezin hobeak dira gailu elektroniko aurreratuetarako. Aukeratu Semicera zure beharretara egokitutako kalitate handiko SiN zeramikazko soluzioetarako.


Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Semicera-ren SiN Ceramics Plain Substrateek errendimendu handiko irtenbidea eskaintzen dute hainbat aplikazio elektroniko eta industrialetarako. Eroankortasun termiko bikainagatik eta erresistentzia mekanikoagatik ezagunak, substratu hauek ingurune zorrotzetan funtzionamendu fidagarria bermatzen dute.

Gure SiN (silizio nitruroa) zeramika muturreko tenperaturak eta estres handiko baldintzak kudeatzeko diseinatuta daude, potentzia handiko elektronika eta gailu erdieroale aurreratuetarako egokiak izateko. Haien iraunkortasuna eta shock termikoaren aurkako erresistentzia ezin hobea da fidagarritasuna eta errendimendua funtsezkoak diren aplikazioetan erabiltzeko.

Semiceraren zehaztasun-ekoizpen-prozesuek substratu arrunt bakoitzak kalitate estandar zorrotzak betetzen dituela ziurtatzen dute. Horri esker, lodiera eta gainazaleko kalitate koherenteak dituzten substratuak lortzen dira, eta horiek ezinbestekoak dira muntaia eta sistema elektronikoetan errendimendu optimoa lortzeko.

Abantaila termiko eta mekanikoez gain, SiN Ceramics Plain Substrateek isolamendu elektrikoaren propietate bikainak eskaintzen dituzte. Horrek interferentzia elektriko minimoak bermatzen ditu eta osagai elektronikoen egonkortasun eta eraginkortasun orokorrean laguntzen du, haien funtzionamendu-iraupena areagotuz.

Semicera-ren SiN Ceramics Plain Substrates hautatuz gero, materialaren zientzia aurreratua eta goi mailako fabrikazioa uztartzen dituen produktu bat aukeratzen ari zara. Kalitatearen eta berrikuntzaren aldeko gure konpromisoak industriako estandarrik altuenak betetzen dituzten substratuak jasoko dituzula bermatzen du eta zure teknologia aurreratuko proiektuen arrakastari eusten diozula.

Elementuak

Ekoizpena

Ikerketa

Manikoa

Kristal Parametroak

Politipoa

4H

Gainazalaren orientazio errorea

<11-20 >4±0,15°

Parametro elektrikoak

Dopatzailea

n motako nitrogenoa

Erresistentzia

0,015-0,025 ohm·cm

Parametro mekanikoak

Diametroa

150,0 ± 0,2 mm

Lodiera

350±25 μm

Orientazio lau nagusia

[1-100]±5°

Lehen mailako luzera laua

47,5±1,5 mm

Bigarren mailako pisua

Bat ere ez

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Arkua

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Aurrealdeko (Si-aurpegia) zimurtasuna (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Egitura

Mikrohodiaren dentsitatea

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Metalezko ezpurutasunak

≤5E10atomo/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Aurrealdeko Kalitatea

Aurrealdea

Si

Gainazaleko akabera

Si-face CMP

Partikulak

≤60ea/oblea (tamaina ≥0.3μm)

NA

Marradurak

≤5ea/mm. Luzera metatua ≤Diametroa

Luzera metatua≤2*Diametroa

NA

Laranja azala/hobiak/orbanak/striadurak/ pitzadurak/kutsadura

Bat ere ez

NA

Ertzaren txirbilak/koskak/hausturak/hexagonaleko plakak

Bat ere ez

Politipo eremuak

Bat ere ez

Azalera metatua≤% 20

Azalera metatua≤% 30

Aurrealdeko laser markaketa

Bat ere ez

Itzuli Kalitatea

Atzeko akabera

C-aurpegia CMP

Marradurak

≤5ea/mm, Luzera metatua ≤2*Diametroa

NA

Atzealdeko akatsak (ertz txirbilak/koskak)

Bat ere ez

Bizkarreko zakartasuna

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Atzeko laser bidezko markaketa

1 mm (goiko ertzetik)

Ertza

Ertza

Txanflarra

Enbalajea

Enbalajea

Epi-prest hutsean ontziratzearekin

Ostia anitzeko kasete ontziratzea

*Oharrak: "NA" esan nahi du ez dagoela eskaerarik Aipatutako elementuek SEMI-STD-i erreferentzia egin dezakete.

tech_1_2_tamaina
SiC obleak

  • Aurrekoa:
  • Hurrengoa: