MOCVD-rako silizio-karburoa estalitako diskoa

Deskribapen laburra:

Semicera-ren MOCVD-rako silizio-karburo estalitako diskoa metal-organiko kimiko lurrun-deposizioan (MOCVD) prozesuetan aparteko errendimendua eskaintzeko diseinatuta dago. Silizio karburozko estaldura iraunkor batekin, disko honek egonkortasun termiko bikaina, erresistentzia kimiko handiagoa eta bero banaketa uniformea ​​eskaintzen ditu, erdieroale eta LED ekoizpenerako baldintza ezin hobeak bermatuz. Semiceraren siliziozko karburozko estalitako diskoek industriako liderrak fidatuta, zure MOCVD prozesuen eraginkortasuna eta fidagarritasuna hobetzen dituzte, kalitate handiko emaitza koherenteak emanez.


Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Deskribapena

TheSiliziozko Karburo Diskoasemiceratik MOCVDrentzat, hazkuntza epitaxialaren prozesuetan eraginkortasun optimorako diseinatutako errendimendu handiko soluzioa. Silizio-karburozko disko semizeroak egonkortasun termiko eta zehaztasun bikainak eskaintzen ditu, Si Epitaxia eta SiC Epitaxia prozesuetan ezinbesteko osagai bihurtuz. MOCVD aplikazioen tenperatura altuei eta baldintza zorrotzei aurre egiteko diseinatua, disko honek errendimendu fidagarria eta iraupena bermatzen ditu.

Gure siliziozko karburoaren diskoa MOCVD konfigurazio ugarirekin bateragarria da, besteak besteMOCVD susceptorsistemak, eta SiC Epitaxy-n GaN bezalako prozesu aurreratuak onartzen ditu. PSS Etching Carrier, ICP Etching Carrier eta RTP Carrier sistemekin ere ondo integratzen da, zure fabrikazio-irteeraren zehaztasuna eta kalitatea hobetuz. Silizio monokristalinoa ekoizteko edo LED Epitaxial Susceptor aplikazioetarako erabiltzen den ala ez, disko honek emaitza paregabeak bermatzen ditu.

Gainera, semiceraren siliziozko karburoaren diskoa hainbat konfiguraziotara moldagarria da, besteak beste, Pancake Susceptor eta Barrel Susceptor konfigurazioetara, malgutasuna eskainiz fabrikazio-ingurune ezberdinetan. Pieza fotovoltaikoak sartzeak eguzki-energiaren industrietara ere zabaltzen du bere aplikazioa, modernoentzako osagai polifazetikoa eta ezinbestekoa bihurtuz.epitaxialahazkundea eta erdieroaleen fabrikazioa.

 

Ezaugarri nagusiak

1 .Araztasun handiko SiC estalitako grafitoa

2. Beroarekiko erresistentzia eta uniformetasun termikoa

3. OndoSiC kristalez estalitagainazal leun baterako

4. Iraunkortasun handia garbiketa kimikoen aurka

 

CVD-SIC estalduren zehaztapen nagusiak:

SiC-CVD
Dentsitatea (g/cc) 3.21
Flexio-indarra (Mpa) 470
Hedapen termikoa (10-6/K) 4
Eroankortasun termikoa (W/mK) 300

Enbalatzea eta bidalketa

Hornikuntzarako gaitasuna:
10000 Pieza/Pieza Hilero
Paketatzea eta entrega:
Enbalatzea: Enbalaje estandarra eta sendoa
Poly poltsa + Kutxa + Kartoia + Paleta
Portua:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Epea:

Kopurua (Piezak)

1-1000

> 1000

Est. Denbora (egunak) 30 Negoziatu beharrekoa
Semicera Lantokia
Semicera lantokia 2
Ekipamendu-makina
CNN prozesatzea, garbiketa kimikoa, CVD estaldura
Semicera Biltegia
Gure zerbitzua

  • Aurrekoa:
  • Hurrengoa: