Siliziozko karburo iraunkorra estalitako upel erreaktorea

Deskribapen laburra:

Semicerak hainbat epitaxi-erreaktoretarako diseinatutako suszeptore eta grafito-osagaien sorta zabala eskaintzen du.

Industriako lider diren OEMekin lankidetza estrategikoen bidez, materialen esperientzia zabalaren eta fabrikazio gaitasun aurreratuen bidez, Semicerak neurrira egindako diseinuak eskaintzen ditu zure aplikazioaren eskakizun zehatzak betetzeko. Bikaintasunarekiko dugun konpromisoak zure epitaxia-erreaktoreen beharretarako soluzio optimoak jasoko dituzula ziurtatzen du.

 

 

 

 


Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Gure enpresak eskaintzen duSiC estalduraProzesatu zerbitzuak grafito, zeramika eta beste materialen gainazalean CVD metodoaren bidez, karbonoa eta silizioa duten gas bereziek tenperatura altuan erreakzionatu ahal izateko, purutasun handiko Sic molekulak lortzeko, material estalien gainazalean metatu daitezkeenak bat sortzeko.SiC babes-geruzaepitaxia upel mota hy pnotic.

 

Ezaugarri nagusiak:

1 .Araztasun handiko SiC estalitako grafitoa

2. Beroarekiko erresistentzia eta uniformetasun termikoa

3. OndoSiC kristalez estalitagainazal leun baterako

4. Iraunkortasun handia garbiketa kimikoen aurka

 
SiC estalitako Barril Susceptor

-ren zehaztapen nagusiakCVD-SIC Estaldura

SiC-CVD propietateak

Kristal Egitura FCC β fasea
Dentsitatea g/cm³ 3.21
Gogortasuna Vickers gogortasuna 2500
alearen tamaina μm 2~10
Garbitasun kimikoa % 99,99995
Bero Ahalmena J·kg-1 ·K-1 640
Sublimazio-tenperatura 2700
Indar felesural MPa (RT 4 puntu) 415
Gazteen Modulua Gpa (4 puntuko bihurgunea, 1300 ℃) 430
Hedapen termikoa (CTE) 10-6K-1 4.5
Eroankortasun termikoa (W/mK) 300

 

 
2--cvd-sic-garbitasuna---99-99995-_60366
5----sic-kristal_242127
Semicera Lantokia
Semicera lantokia 2
Ekipamendu-makina
CNN prozesatzea, garbiketa kimikoa, CVD estaldura
Gure zerbitzua

  • Aurrekoa:
  • Hurrengoa: