Ga2O3 Epitaxia

Deskribapen laburra:

Ga2O3Epitaxia– Hobetu zure potentzia handiko gailu elektroniko eta optoelektronikoak Semicera-ren Ga2O3Epitaxia, errendimendu eta fidagarritasun paregabeak eskaintzen dituen erdieroaleen aplikazio aurreratuetarako.


Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Semiceraharro eskaintzen duGa2O3Epitaxia, potentzia elektronikaren eta optoelektronikaren mugak gainditzeko diseinatutako puntako irtenbidea. Teknologia epitaxial aurreratu honek galio oxidoaren (Ga2O3) aplikazio zorrotzetan errendimendu handiagoa emateko.

Ezaugarri nagusiak:

• Aparteko banda zabala: Ga2O3EpitaxiaBand-gap ultra-zabala du, matxura-tentsio handiagoak eta funtzionamendu eraginkorra ahalbidetuz potentzia handiko inguruneetan.

Eroankortasun termiko handia: Geruza epitaxialak eroankortasun termiko bikaina eskaintzen du, tenperatura altuko baldintzetan ere funtzionamendu egonkorra bermatuz, maiztasun handiko gailuetarako aproposa da.

Materialen kalitate gorena: Lortu kristalen kalitate handia akats minimoekin, gailuaren errendimendu eta iraupen optimoa bermatuz, batez ere potentzia transistoreak eta UV detektagailuak bezalako aplikazio kritikoetan.

Aniztasuna aplikazioetan: Potentzia elektronikarako, RF aplikazioetarako eta optoelektronikarako ezin hobeto egokitzen da, hurrengo belaunaldiko gailu erdieroaleetarako oinarri fidagarria eskaintzen duena.

 

Ezagutu ahalmenaGa2O3EpitaxiaSemiceraren soluzio berritzaileekin. Gure produktu epitaxialak kalitate eta errendimendu estandarrik altuenak betetzeko diseinatuta daude, zure gailuek eraginkortasun eta fidagarritasun handienarekin funtziona dezaten. Aukeratu Semicera punta-puntako erdieroaleen teknologiarako.

Elementuak

Ekoizpena

Ikerketa

Manikoa

Kristal Parametroak

Politipoa

4H

Gainazalaren orientazio errorea

<11-20 >4±0,15°

Parametro elektrikoak

Dopatzailea

n motako nitrogenoa

Erresistentzia

0,015-0,025 ohm·cm

Parametro mekanikoak

Diametroa

150,0 ± 0,2 mm

Lodiera

350±25 μm

Orientazio lau nagusia

[1-100]±5°

Lehen mailako luzera laua

47,5±1,5 mm

Bigarren mailako pisua

Bat ere ez

TTV

≤5 μm

≤10 μm

≤15 μm

LTV

≤3 μm (5mm*5mm)

≤5 μm (5mm*5mm)

≤10 μm (5mm*5mm)

Arkua

-15μm ~ 15μm

-35μm ~ 35μm

-45μm ~ 45μm

Warp

≤35 μm

≤45 μm

≤55 μm

Aurrealdeko (Si-aurpegia) zimurtasuna (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Egitura

Mikrohodiaren dentsitatea

<1 ea/cm2

<10 ea/cm2

<15 ea/cm2

Metalezko ezpurutasunak

≤5E10atomo/cm2

NA

BPD

≤1500 ea/cm2

≤3000 ea/cm2

NA

TSD

≤500 ea/cm2

≤1000 ea/cm2

NA

Aurrealdeko Kalitatea

Aurrealdea

Si

Gainazaleko akabera

Si-face CMP

Partikulak

≤60ea/oblea (tamaina ≥0.3μm)

NA

Marradurak

≤5ea/mm. Luzera metatua ≤Diametroa

Luzera metatua≤2*Diametroa

NA

Laranja azala/hobiak/orbanak/striadurak/ pitzadurak/kutsadura

Bat ere ez

NA

Ertzaren txirbilak/koskak/hausturak/hexagonaleko plakak

Bat ere ez

Politipo eremuak

Bat ere ez

Azalera metatua≤% 20

Azalera metatua≤% 30

Aurrealdeko laser bidezko markaketa

Bat ere ez

Itzuli Kalitatea

Atzeko akabera

C-aurpegia CMP

Marradurak

≤5ea/mm, Luzera metatua ≤2*Diametroa

NA

Atzealdeko akatsak (ertz txirbilak/koskak)

Bat ere ez

Bizkarreko zakartasuna

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Atzeko laser bidezko markaketa

1 mm (goiko ertzetik)

Ertza

Ertza

Txanflarra

Enbalajea

Enbalajea

Epi-prest hutsean ontziratzearekin

Ostia anitzeko kaseteen ontziratzea

*Oharrak: "NA" esan nahi du ez dagoela eskaerarik Aipatutako elementuek SEMI-STD-i erreferentzia egin dezakete.

tech_1_2_tamaina
SiC obleak

  • Aurrekoa:
  • Hurrengoa: