Egonkorra eta fidagarria eman dezakegusilizio karburozko kristalezko itsasontziak, siliziozko karburozko palak, silizio karburoko labeko hodiak4 hazbete eta 6 hazbete arteko ostia erdieroaleen industriarako. Garbitasuna % 99,9ra irits daiteke ostia kutsatu gabe.
Silizio karburoko labeko hodiahauetarako erabiltzen da batez ere: 4-6 hazbeteko siliziozko oblea LTO= silizea, SIPOS= oxi-polisilicioa, SI3N4= silizio nitruroa, PSG= fosfossiliziozko beira, POLY= polisiliziozko filmaren hazkundea.Substratuaren gainazalean film solido bat sortzeko energia termikoaren bidez aktibatzen den lehengaiaren gasa da (edo iturri likidoaren gasifikazioa). Presio baxuko lurrun-deposizio kimikoa presio baxuan egiten da, presio baxuaren ondorioz, gas molekulen batez besteko bide askea handia da, hazitako filmaren uniformetasuna ona izan dadin eta substratua bertikalki jar daiteke eta kantitatea. karga handia da, bereziki egokia eskala handiko zirkuitu integratuak, gailu diskretuak, potentzia-elektronika, gailu optoelektronikoak eta zuntz optikoa eta industria-ekoizpeneko ekipamendu bereziko beste industria batzuetarako.
Semicera Energy Technology Co., Ltd silizio karburo zeramikazko produktuen ikerketa, garapena, ekoizpena eta salmenta profesionala da. 2016an sortu zenetik, Semicera Energyk prentsaketa isostatikoa moldatzeko prozesua, mila prentsa bidezko moldaketa prozesua, grouting moldaketa prozesua eta hutsean estrusioa moldekatzeko prozesua menperatzen ditu. Gure enpresak 6 silizio karburoa zeramikazko sinterizazio-lerro ekoizten ditu, 8 CNC, 6 zehaztasun artezteko makina ditu, silizio karburo zeramikazko produktu sinterizatuak ere eman ditzake, baina silizio karburo zeramikazko zeramika, alumina zeramika, aluminio nitruro zeramika, zirkonia zeramika prozesatzeko zerbitzuak ere eman ditzake. .
